X射线光电子能谱仪

技术指标：

 能量分辨率≤0.5 eV（对Ag3d5/2峰的半高宽，干净的银标样）；在束斑大小为400μm且光源功率<80W的实验条件下，当Ag3d5/2峰的半高宽≤1.0eV时，计数率≥4,000,000 cps；

 能量扫描范围5eV-1500eV,最小能量步长3meV，通过能为1-400eV，连续可调

 最小聚焦获得束斑≤30 µm；束斑面积从30μm至400μm聚焦连续可调，步长不超过5µm；

 分析室极限真空度，应优于5×10-9 mbar；

 团簇离子刻蚀枪，能量范围：500-4000 eV（单离子模式），2000-8000 eV（团簇模式） 

功能及应用范围：

光电子能谱仪(XPS)为当前最重要的表面分析技术。该技术基于光电效应，采用X射线激发被测样品表面纳米尺度内的原子发射光电子，通过系统探测到所发射光电子的动能等信息，进而实现样品表面的元素种类及化合态的定性和定量的分析。XPS广泛应用于催化、化工、半导体、微电子、薄膜、太阳能、高分子聚合物、陶瓷、钢铁、金属、生物材料、纳米技术等领域。国际上，X射线光电子能谱仪被广泛应用材料表面分析、材料缺陷分析、多层膜结构性能分析、太阳能电池、硅酸盐材料以及纳米材料等科研和工业应用等诸多领域。

送样要求：

均匀的粉末样品（能铺满0.5cm*0.5cm面积，厚度>0.5mm）；固体块状样品要求厚度小于2mm，大小小于2cm*2cm。磁性样品请提前告知测试老师，进行消磁处理。